Установка MiniLab 080 применяется как для исследований и разработок, так и в производственных компания. С ее помощью можно реализовывать все процессы вакуумного напыления с любых источников в ручном или полуавтоматическом режимах. Камера установки имеет достаточную высоту, что делает ее идеальной для работы с электронно-лучевым источником и для работы с низкотемпературными резистивными источниками (LTE). Применение: исследования и разработки, осаждение тонких пленок в промышленности.
Рабочая камера |
Нержавеющая сталь, с фронтальной загрузкой, D-формы, 400х400х550 (высота) мм (внешние размеры), 23 базовых фланца (27 мм) для источников и различных вспомогательных инструментов |
Источники |
До 4-х стандартных резистивных источников с водяным охлаждением, либо сильноточный резистивный источник с замкнутым контуром (конкурирующий с электронно-лучевым источником до 2000°С). До 4-х LTE источников для распыления органических материалов. Электронно-лучевое испарение: 4х7 куб.см или 6х4 куб.см многокарманная пушка с автоматическим выбором кармана для многослойного последовательного осаждения. Распыление: до четырех 3” или 2” магнетронов с опцией автоматического соосаждения. Узел для реактивного ионного травления. |
Подложки |
Нагрев, охлаждение, наклон и перемещение пластин по вертикали (опции) |