Новая система  плазмохимического газофазного осаждения (PECVD) AKT 55KS от Applied использует прецизионную технологию PECVD для подложек размерами 2200 мм х 2500 мм. Она осаждает переходный диэлектрический слой для металлических оксидных (МО) транзисторов с применением нового высококачественного оксида кремния (SiO2), использование которого минимизирует примеси водорода, чтоулучшает стабильность и долговечность работы транзисторов и оптимизирует эксплуатационные характеристики экрана. Поддерживая единообразие характеристик и контроль запылённости, необходимые для достижения высокой производительности установки, система AKT-55KS обеспечивает быстрый и простой путь для изготовления высококачественных МО дисплеев.